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《大行》大和：華為半導體新理論有驚喜 顯示設計與製造環節已取得突破
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大和發表報告指，華為旗下海思半導體昨日(25日)正式推出芯片設計原理「韜(τ)定律」，採用時間(τ)尺度作為新的指導原則，以提升晶片密度與系統性能，取代目前主流的幾何縮放定律。透過LogicFolding架構縮短關鍵路徑佈線、減少訊號傳播延遲，從而大幅提升電晶體密度與性能。同時，其全堆疊軟體與互聯協議亦有助降低執行時間及系統通訊延遲。 報告指，海思半導體預計2026年秋季推出的新一代麒麟晶片，將是首款基於LogicFolding架構的產品，性能較目前採用N+3/5nm製程的Kirin 9030有明顯提升。海思半導體目標到2031年，透過Tau Scaling Law開發出性能相當於1.4nm製程的晶片。 大和認為，在EUV光刻設備受限的情況下，中國目前能量產的最佳製程節點為使用浸潤式DUV工具的N+3/5nm晶片。中國在5nm之後的技術路線，主要是發展3D IC以提升晶片性能。該行認為，海思提出的Tau Scaling Law本質上是基於3D IC原理，透過降低通訊延遲與訊號傳播來改善系統級性能。雖然業界早已知道3D封裝是中國半導體的重點發展方向，但海思此次的正式發表仍帶來正面驚喜，顯示在設計與製造環節已取得突破。重申對中國半導體供應鏈的正面看法。(ha/da)AASTOCKS新聞 |
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